Dintlha tsa Botlhokwa
- ASML 預計，到2028年設備需求將持續超過供應。
- EUV 裝置的年產能可能提升至110臺以上。
- 輝達與臺積電依賴先進製造產能的持續擴張。
ASML（NASDAQ : ASML）表示，儘管這家荷蘭半導體巨頭正準備大幅提高產量，但市場對其先進芯片製造設備的需求預計到2028年仍將超過其生產能力。
公司計畫在2027年將製造產能擴大30%，並研究在2028年進一步擴產，這可能使其極紫外（EUV）光刻機的年產量提升至110臺以上。
ASML 計畫生產超過 110 台 EUV 裝置，AI 的需求增長速度快於供應
根據 ASML 在10月14日發布的財報公告，公司目前不再預期現有的生產計劃能夠滿足2027年或2028年的客戶需求。
執行長 Christophe Fouquet 表示，客戶已開始表達鎖定 2029 年甚至 2030 年設備交付的意願，這反映出市場預期 AI 基礎設施投資將持續進行。
ASML 此前為2026年設定的年產能基線約為65臺低數值孔徑（low-NA）EUV 裝置。若2027年按計劃擴產30%，這一數字將提升至約85臺。
如果2028年再擴產30%，理論年產能將升至約110臺。ASML 目前正在評估是否能夠超越這一目標。
這些數字代表的是計劃中的製造產能，並非已確認的交付量，也不代表能保證實現的產量。
公司還計畫提高已安裝在客戶工廠中的設備生產效率，從而在不完全依賴新增生產系統的情況下提升芯片產出。
為何輝達和臺積電依賴ASML的製造產能
ASML 在半導體行業中處於極其關鍵的位置，因為它是目前唯一一家商業化生產用於先進芯片製造的 EUV 光刻系統的廠商。
這類設備讓製造商能夠在矽晶圓上刻寫極其微小的電路圖案，從而支持生產性能更強、能效更高的處理器。
臺積電（TSMC）使用先進的製造設備，為包括輝達和AMD在內的客戶生產芯片。
因此，即便 AI 加速器的需求依然强劲，若 ASML 裝置的供應有限，也有可能限制半導體製造商擴大產能的速度。
三星和英特尔也在投資下一代製造技術，這進一步加劇了對高端光刻系統的競爭。
不過，設備短缺並不必然會立即導致輝達 GPU 的產量下降。實際的芯片產量還取決於工廠利用率、封裝能力、內存供應以及設備生產效率等因素。
儘管市場擔憂 AI 的支出，ASML 的股價仍累計上漲了近70%
預期中的設備短缺，凸顯出半導體行業基本面與股市情緒之間的鮮明反差。
ASML 第三季度淨利約為50億歐元，公司同時將全年營收指引下限上調至440億歐元。
不過，隨著投資者質疑龐大的 AI 基礎設施支出是否能帶來足夠回報，更廣泛的半導體股票近期仍面臨拋售壓力。
ASML 有限的設備產能可能增強其定價能力，但擴產同樣需要製造投資以及複雜的供應商協同。
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Maya Bennett 是一名財經記者，曾報導加密貨幣、股票及更廣泛的市場趨勢。她的報導重點包括比特幣、主要數字資產、股票市場、貨幣政策，以及推動投資者情緒變化的經濟發展。她擅長將快速變化的市場事件轉化為清晰、簡潔的報導。
